真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具有很多種類,包括真空離子蒸發(fā) ,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜設備在使用中也會很多問 題,比如鍍出的產品掉膜。下面我們就來介紹一下真空鍍膜設備鍍出的產品掉膜原因。
1.產品表面的潔凈度不夠,離子源清洗氬氣放大時間過長。
2.清洗時是否加了清洗劑,或者更換了清洗劑,建議使用純水先試一下。
3.工藝參數是否變動,在膜厚和電流上可進行一些調整。
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真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具有很多種類,包括真空離子蒸發(fā) ,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜設備在使用中也會很多問 題,比如鍍出的產品掉膜。下面我們就來介紹一下真空鍍膜設備鍍出的產品掉膜原因。
1.產品表面的潔凈度不夠,離子源清洗氬氣放大時間過長。
2.清洗時是否加了清洗劑,或者更換了清洗劑,建議使用純水先試一下。
3.工藝參數是否變動,在膜厚和電流上可進行一些調整。
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